 rui40000andClaude Opus 5
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becde22105
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优化 Unmult 批处理：改 torch 分块运算，124 帧提速 3.8 倍
原实现逐帧 numpy 处理再 torch.stack，124 帧 1024x1024 需 9.98 秒。
瓶颈有二：单帧内近十次中间数组分配（每份 12MB），以及 numpy 绝大多数
算子单线程、多核闲置。
改动：
- 核心运算改用 torch 算子分块处理，走 CPU 多线程；原地运算压掉中间分配
- 结果直写预分配张量，省掉最后那次 stack 大拷贝
- 主体 mask 的 resize 移出循环，不再对同一张 mask 重复缩放 B 次
- 分块而非整批，控制中间量内存峰值
实测 9.98s -> 2.61s（3.82x）。与旧实现 24 组对拍全部逐元素一致，
涵盖黑/白/绿幕/自定义底色、黑白点、mask 的四种形状、主体保护开关、
旧英文参数名、RGBA/单通道输入。
Co-Authored-By: Claude Opus 5 <noreply@anthropic.com>
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2026-08-18 17:36:45 +08:00 |
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rui40000andClaude Opus 4.8
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a1f52de801
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feat: Unmult 增加「主体保护」开关，控制是否采纳 subject_mask
subject_mask 的合并逻辑此前已存在，本次补上开关：
- 启用（默认）：alpha 取 max(unmult 结果, subject_mask)
- 关闭：即便上游已连线也完全不采纳，等同纯 Unmult
想对比「有无 AI 介入」的差别时拨开关即可，不必拔线。
兼容旧英文名 use_subject_mask。
顺带把黑点/白点 tooltip 里的「（主体保护）」字样去掉 —— 那是描述
参数作用的措辞，和新开关撞名会让人以为是同一功能。
实测（黑底 + 暗色实体，alpha 真值恒为 1，下半近纯黑）：
不接 mask 暗部 alpha 0.080 ← 黑衣黑发被扣穿
接 mask + 保护启用 暗部 alpha 1.000
接 mask + 保护关闭 暗部 alpha 0.080，与不接 mask 逐元素一致
即开关确实起作用，且关闭时行为与纯 Unmult 完全等价。
这同时解掉了上次记录的适用边界：黑底 unmult 本质是拿亮度当不透明度，
对实体不成立；现在接一路语义抠图的 alpha 进 subject_mask 即可破解 ——
语义模型负责「哪里是主体」，Unmult 负责「边缘有多透」。README 已按此改写。
Co-Authored-By: Claude Opus 4.8 <noreply@anthropic.com>
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2026-08-18 15:44:32 +08:00 |
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rui40000andClaude Opus 4.6
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adb1de6329
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feat: Unmult 节点新增 AI 主体保护（可选 subject_mask 输入）
接入 FeyNobg/Lucida/BiRefNet 等抠图节点输出的 mask，
执行 max(unmult_α, subject_mask) 合并，
防止主体中与背景色相近的区域被误判为透明。
不连接时行为不变，向后兼容。
Co-Authored-By: Claude Opus 4.6 <noreply@anthropic.com>
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2026-08-18 12:00:04 +08:00 |
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rui40000andClaude Opus 4.8
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ea632a54d1
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style: Unmult 的黑点/白点改为中文滑块，与 LayerStyle 观感一致
两项参数加 "display": "slider"，界面从带箭头的数字框变成滑块；
参数名直接用中文「黑点」「白点」，这样不依赖 i18n 语言包，
任何语言环境下都显示中文（LayerStyle 显示中文是靠它自带的翻译文件）。
中文名无法作为函数形参，故 unmult() 改用 **kwargs 接收，
同时兼容旧的 alpha_low / alpha_high，早先保存的工作流不会失配。
验证：display=slider 生效、tooltip 保留、取值范围与步进不变；
黑点 0.2 使全透明占比 0.031→0.219，白点 0.7 使全不透明占比
0.016→0.312，参数确实起作用；旧英文名调用照常工作。
Co-Authored-By: Claude Opus 4.8 <noreply@anthropic.com>
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2026-08-17 14:42:12 +08:00 |
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rui40000andClaude Opus 4.8
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bc433bc24a
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docs: 核实 Unmult 节点并补充 README（含实测适用边界）
节点为纯数学去底（等效 AE Unmult）：纯色底合成图满足
C = aF + (1-a)B，背景色已知即可反解出前景色与 alpha，
无需模型推理，且能真实保留半透明层次。
核实结果：
- 已正确注册进 __init__.py（无外部依赖，裸 import 与仓库惯例一致）
- 4 个参数均带中文 tooltip，符合本仓库的统一规则
- 分类 Rui-Node/抠图 与其余抠图节点一致，支持批量
验证（构造已知合成图反推真值）：
- 发光素材在黑底/白底/绿幕下，alpha 与前景色平均误差均为 0.0000，
数学上是精确解
- 黑白点参数、批量输入、RGBA/MASK 双输出均正常
同时测出一条必须写进文档的适用边界：
黑底 unmult 本质是拿亮度当不透明度，这对发光物成立、对实体不成立。
同一实体素材（alpha 真值恒为 1）实测——
黑底：亮部 0.900，暗部仅 0.080（黑头发/深色衣服/鞋会被扣穿）
绿幕：亮部 0.900，暗部 0.940，正常
故黑底的角色素材仍应走 Lucida / FeyNobg 等语义抠图，
unmult 留给光效、火焰、粒子与绿幕素材。README 补了四个抠图节点的选型表。
Co-Authored-By: Claude Opus 4.8 <noreply@anthropic.com>
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2026-08-17 14:10:04 +08:00 |
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